DNP beschleunigt die Entwicklung eines Fotomasken-Herstellungsprozesses für EUV-Lithographie der 2nm-Generation

27.03.2024

TOKYO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912) hat mit der Entwicklung einer Fotomaske für die Herstellung von Logik-Halbleitern der 2-Nanometer-Generation (10-9 Meter) begonnen, die die Extrem-Ultraviolett-Lithographie (EUV), das modernste Verfahren für die Halbleiterherstellung, unterstützt. DNP wird auch als Unterauftragnehmer fungieren und die neu entwickelte Technologie an die in Tokio ansässige Rapidus Corporation (Rapidus) liefern. Rapidus beteiligt sich an dem

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